특허(출원)
레이저를 이용한 아파타이트 피막 형성방법
출원번호 | 10-2018-0104453 | 출원일 | 2018-09-03 |
---|---|---|---|
출원인 | 한국과학기술연구원 | 소속기관 사업자등록번호 | ***-**-**52* |
해외출원 여부 | 국내출원 | 출원/등록 국가 | 대한민국 |
우선권 주장번호 | - | 기여율 | 100 % |
등록번호 | - | 등록일 | - |
---|---|---|---|
발명자 |
전호정
;
엄승훈
;
정용우
;
서현선
;
김유찬
;
옥명렬
;
석현광
※ 과제 참여정보와 일치하는 연구자 상세정보로 정확하지 않을 수 있습니다. |
||
IPC 코드 |
C23C 18/14
C23C 18/12
A61L 27/32
A61L 27/06
|
||
CPC 코드 |
C23C 16/483
C23C 18/14
A61L 27/32
A61L 27/06
A61F 2/28
A61F 2310/00796
A61F 2310/00407
A61L 2430/02
|
||
법적상태 | 거절 | ||
요약 | 기판의 적어도 일부 영역에 Ca2+ 이온 및 PO43- 이온을 포함하는 전구체 용액을 직접 접촉시키는 단계, 상기 전구체 용액을 통과하여 상기 전구체 용액과 직접 접촉되는 기판 상의 영역으로 레이저를 조사하는 단계, 및 상기 레이저가 조사된 영역에 아파타이트를 형성하는 단계를 포함하는, 아파타이트 피막 형성 방법을 제공한다. |
연구개발성과 등록 또는 활용에 대한 문의는 특허 연구개발성과 담당자를 통해 문의하시기 바랍니다.
[문의] 한국특허전략개발원 Tel : 02)3287-4332, E-mail : ripis@kista.re.kr
- NTIS 관련 이용문의는 NTIS 콜센터(042-869-1115)로 문의하시기 바랍니다.
NTIS의 특허 정보는 국가연구개발사업 수행을 통해 발생된 성과로, 조사분석 등을 통해 입력된 정보를 수집 및 제공하고 있어, 특허정보 제공 사이트(특허청, KIPRIS 등)에서 일괄 제공하는 특허 정보와 차이가 있을 수 있습니다.