국가연구개발성과
특허(출원)
전기 소자의 안정성 향상을 위한 용액 공정 기반의 보호층 및 그 제조 방법
| 출원번호 | 10-2018-0105864 | 출원일 | 2018-09-05 |
|---|---|---|---|
| 출원인 | 중앙대학교 산학협력단;광운대학교 산학협력단 | 소속기관 사업자등록번호 | - |
| 해외출원 여부 | 국내출원 | 출원/등록 국가 | 대한민국 |
| 우선권 주장번호 | - | 기여율 | 50 % |
기타사항
| 등록번호 | 10-2139797-0000 | 등록일 | 20200724 |
|---|---|---|---|
| 발명자 |
하태준
;
강동원
;
강병철
;
이서준
※ 과제 참여정보와 일치하는 연구자 상세정보로 정확하지 않을 수 있습니다. |
||
| IPC 코드 |
H01L 31/18
H01L 31/048
H01L 31/0216
|
||
| CPC 코드 |
H01L 31/1868
H01L 31/0481
H01L 31/02167
|
||
| 법적상태 | 등록 | ||
| 요약 | 본 실시예들은 저온 용액 공정 기반으로 소수성 물질을 포함하는 제1 보호층 및 제1 보호층에 포함된 소수성 물질보다 상대적으로 소수성 정도가 약한 물질을 포함하는 제2 보호층을 이용하여 이중 차단 구조의 보호층을 형성하는 방법, 제1 보호층 및 제2 보호층의 적층 구조를 이용하여 장시간 수분에 노출되더라도 전자 소자의 전기적 특성을 유지할 수 있는 전자 소자를 제공한다. | ||
연구개발성과 등록 또는 활용에 대한 문의는 특허 연구개발성과 담당자를 통해 문의하시기 바랍니다.
[문의] 한국특허전략개발원 Tel : 02)3287-4332, E-mail : ripis@kista.re.kr
- NTIS 관련 이용문의는 NTIS 콜센터(042-869-1115)로 문의하시기 바랍니다.
NTIS의 특허 정보는 국가연구개발사업 수행을 통해 발생된 성과로, 조사분석 등을 통해 입력된 정보를 수집 및 제공하고 있어, 특허정보 제공 사이트(특허청, KIPRIS 등)에서 일괄 제공하는 특허 정보와 차이가 있을 수 있습니다.
